Equipo de configuración fotolitográfica |
El proceso de configuración fotolitográfica, consiste en la aplicación a la superficie de la oblea de un líquido polimérico viscoso y sensible a la luz ("fotorresistivo"), el cual se torna soluble al someterlo a una radiación UV. Una vez aplicado el líquido, la oblea se hace girar a gran velocidad, para que la fuerza centrífuga extienda uniformemente el líquido a toda la oblea.
Esta operación se debe efectuar en cada capa que ha de ser modificada, lo que se realiza por el proceso de enmascaramiento.
Las máscaras, son dispositivos a través de los cuales, se hace pasar luz UV para transferiri a la oblea el patrón trazado por los ingenieros a las microscópicas dimensiones de los circuitos del chip, las cuales son de unas 0.25 micras.
Fin parte 3
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